ガラス基板上への高性能磁気光学薄膜の作製

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登録日:2013/11/03 / 更新日:2020/02/05

研究分野分類：5902 無機材料・物性
産業分類：情報通信機械器具製造業，電子部品・デバイス・電子回路製造業

キーワード：無機材料創製・合成プロセス，表界面制御，磁性・電子・情報材料，光デバイス，電気・電子材料

工学

材料工学

安達信泰（未来材料創成工学専攻）

研究概要　光アイソレータ－に使用されている磁気光学材料の新しい作製方法として、ガラス基板に緩衝層を導入後、液相エピタキシー法を使用して、結晶育成を行います。		特徴　ガラス基板に直接には、磁気光学薄膜の結晶成長は行えない。そこで、種結晶を薄くコーティング、結晶化させたのちに、液相エピタキシー法で厚膜化させることを特徴とします。
背景・従来技術　液相エピタキシー法は、単結晶基板を用いてしか結晶成長は起きない、とされていました。この基板は、磁気光学薄膜の場合、希土類元素を含む単結晶基板を用いており、基板自体がコストが高いことがデメリットです。		実用化イメージ　従来の製造工程の前に、コーティングの過程を加えることで、結晶成長を行うことができる手法です。ガラス基板、白金るつぼ、電気炉、薄膜原料等を用意することで、基本的な製造は可能です。